真空应用设备种类繁多，但无论何种真空应用设备都有一套排除被抽容器内气体的抽气系统，以便在真空容器内获得所需要的真空条件。绿色镀膜技术工艺过程简单，对环境友好，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。举例来说：一个真空处理用的容器，用管道和阀门将它与真空泵连接起来，当真空泵对容器进行抽空时，容器上要有真空测量装置，这就构成了一个简单的真空抽气系统。
简单
沈阳真空设备生产厂
真空应用设备种类繁多，但无论何种真空应用设备都有一套排除被抽容器内气体的抽气系统，以便在真空容器内获得所需要的真空条件。绿色镀膜技术工艺过程简单，对环境友好，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。举例来说：一个真空处理用的容器，用管道和阀门将它与真空泵连接起来，当真空泵对容器进行抽空时，容器上要有真空测量装置，这就构成了一个简单的真空抽气系统。
简单的真空系统只能在被抽容器内获得低真空范围内的真空度，当需要获得高真空范围内的真空度时，通常在真空系统中串联一个高真空泵。当串联一个高真空泵之后，通常要在高真空泵的入口和出口分别加上阀门，以便高真空泵能单独保持真空。
了解真空镀膜机
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。在选择的时候需要了解待抽气体的成分，如果需要选择性的抽气，一种泵可能不足以满足要求，必须组合多种不同的泵互相配合工作，如果真空镀膜设备镀膜要求无油则要选用无油泵。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
PVD真空镀膜设备蒸发系统主要指成膜装置部分，PVD镀膜机的很多成膜装置，PVD镀膜有电阻加热、射频溅射、离子镀等多种方式。晶格有序度的均匀性:这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，主要分类有两个大种类:蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。下面介绍PVD镀膜电阻加热和电子枪蒸发的方式：PVD镀膜电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应较多，镀膜广泛的蒸发方式，PVD镀膜也是应用时间长的蒸发方式。 PVD镀膜的工作方式是：PVD镀膜将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，再热传导给PVD镀膜材料，当钨舟的热量高于PVD镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了。
（作者： 来源：）
