真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某
光学镀膜机厂家
真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜技术在光学仪器中的应用
人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪、以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等。它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
一般光学仪器中的光学系统都由多个透镜组成，光线要经玻璃界面，会有相当多的光线被反射掉，透过的光线很少，影响光学仪器的光学效果。为了减少反射损耗，增大光线的透过率，往往在玻璃表面沉积增透膜来提高光的透过率。反射膜与增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或几乎全部反射回去。例如：光学仪器、激光器、波导管、汽车和灯具的反射镜都需要镀反射膜。反射膜有金属膜和介质膜两种。镀制金属高反射膜常用的材料有铝、银、金、铜等。为了提高金属膜表面的抗擦损能力，往往在表面镀一层保护膜，如SiO/SiO2/Al2O3。
在激光器和多光束干涉仪反射镜上，一般沉积低吸收、高反射的全介质反射膜。其结构是在基片上交替沉积光学厚度为λ/4的高、低折射率材料的膜层。
光学镀膜机的镀膜工艺原理
光学镀膜工艺，已经普及到各行各业，光学薄膜在我们的生活中无处不在，更是被大众高度认可，据统计目前光学镀膜机材料常用品种已达60余种，而且其品种、应用功能还在不断被开发。光学镀膜工艺直接影响这大家的生活习惯，已是人们生活中不可或缺的一部分。
从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用广泛，和生活息息相关，比喻平时戴的眼镜、各式家电用品，数码相机，或者是上的防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工，干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。
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