脉冲激光沉积的优点
想了解更多关于脉冲激光沉积的相关资讯，请持续关注本公司。
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；
2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；
3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；
4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性；
5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
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2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；
3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；
4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性；
5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
脉冲激光沉积简介
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
【设备主要用途】
PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。
【设备主要组成】
设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
脉冲激光沉积的基本系统由哪些组成？
腔室及真空泵
门，分子泵，全量程规
沉积源
靶台，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋转，
可Z方向移动
样品台
可加热至800oC（1000oC可选），可水平旋转，可Z方向移动
在线工艺监控
石英晶振沉积速率监控仪
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