实心圆点标定板
产品介绍：
这种板提供的圆形和方形参照并且非常适用于非接触的精度测量系统，特别是容易变形和磨损的情况。在标准显微镜载物片样式的稳定玻璃基地上，用反射率低的铬材料成型出精密的图案。低反射图案表面相对于背后的光高背景形成高对比度，非常适合用于发散照明和同轴光照明中。图案在上表面，圆形和方形尺寸是0.5mm，1-9mm间所有的整数。正片是在透明背景上有不透明
分辨率板
实心圆点标定板
产品介绍：
这种板提供的圆形和方形参照并且非常适用于非接触的精度测量系统，特别是容易变形和磨损的情况。在标准显微镜载物片样式的稳定玻璃基地上，用反射率低的铬材料成型出精密的图案。低反射图案表面相对于背后的光高背景形成高对比度，非常适合用于发散照明和同轴光照明中。图案在上表面，圆形和方形尺寸是0.5mm，1-9mm间所有的整数。正片是在透明背景上有不透明的图案，而负片是不透明的背景上有透光的图案。
产品材质：
1.光学玻璃 2.陶瓷漫反射
桂庆光电提供陶瓷和玻璃两种基底材料的标定板。玻璃材质的标定板，是常用的一种，光学玻璃材质的标定板化学性能很稳定，精度高！此材料无杂质无气泡，是标定板的选材！陶瓷基底的标定板具有热膨胀系数小、硬度高、性好、热传导率低、防酸碱性好、不反光等特点，其良好的表面漫反射处理，解决了在应用过程中，前置光源情况下玻璃材质标定板反光的难题。客户可以根据自己的需求选用不同材质的标定板。
什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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