随着科学技术的发展以及真空应用领域的扩大，原有的机械真空泵及其组成的抽气系统出现了两个急需解决问题：一是泵的工作介质返流污染被抽容器，而这种返流在许多情况下影响产品的质量、数量，增加设备的维护成本。其次，由于某些工艺过程中的反应物质使真空泵内的介质严重变质，使泵不能正常工作。影响凝汽器有利真空的主要因素是：进入凝汽器的蒸汽流量、汽轮机排汽压力、冷却水的进口温度、循环水量、汽轮
极高真空
随着科学技术的发展以及真空应用领域的扩大，原有的机械真空泵及其组成的抽气系统出现了两个急需解决问题：一是泵的工作介质返流污染被抽容器，而这种返流在许多情况下影响产品的质量、数量，增加设备的维护成本。其次，由于某些工艺过程中的反应物质使真空泵内的介质严重变质，使泵不能正常工作。影响凝汽器有利真空的主要因素是：进入凝汽器的蒸汽流量、汽轮机排汽压力、冷却水的进口温度、循环水量、汽轮机的出力变化及循环水泵的耗电量变化等。
对于普通的无油真空系统来说，虽然可用油封式真空泵加上冷阱或吸附阱之类附件来防止返流，但不能解决问题，而且使系统显得复杂。而使用适当型式的干式机械真空泵，则可以达到理想的使用效果。
溅射技术的成就之一是磁控溅射。由于在磁控溅射中引入了正交电磁场使离化率提高到5~6%。于是溅射速率比三级溅射提高10倍左右，对许多材料，溅射速率达到了电子束蒸发的水平。
控溅射具有“低温”、“高速”两大特点。
磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此，是正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。
所以磁控溅射具有“低温”“高速”这两大特点。
磁控溅射的种类很多，按所用电源分，可以分为直流磁控溅射、射频磁控溅射、中频磁控溅射。
直流磁控溅射所用的电源是直流高压电源，通常在300～1000V，特点是溅射速率快，造价低，后期维修保养便宜。
射频磁控溅射所用的射频电源的频率通常是13.56MHz，可以解决直流磁控溅射不能溅射绝缘靶材的问题。
中频磁控溅射常用于反应溅射，来制备金属化合物薄膜，在腔体中除了氩气外，另外加入少量反应气体。
（作者： 来源：）
