真空镀膜机首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。首要思路是分红蒸发和溅射两种。需要镀膜的被变成基片，镀的材料被变成靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子方法被蒸发出来，而且沉
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真空镀膜机首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。首要思路是分红蒸发和溅射两种。需要镀膜的被变成基片，镀的材料被变成靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子方法被蒸发出来，而且沉降在基片表面，经过成膜进程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）构成薄膜。
真空镀膜机真空镀金属需要与塑料表面底漆之间的良好配合，底漆的厚度通常为10—20μm，主要作用是防止塑料中水、增塑剂等排出影响金属附着。真空镀膜设备是一门具有展开远景的运用技术，真空镀膜设备一定系列其他技术的特征：不受镀膜元件的材料及现状的影响。要求涂层硬度高、底漆具有可以修饰塑料缺陷，能提供一个光滑、平整的平面以利于真空镀的性能，并与塑料底材和所镀金属附着牢固。通常选用双组分常温固化的聚氨酯和环氧涂料，低温烘烤的氨基涂料以及热塑性丙烯酸酯涂料。
炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。真空镀膜设备根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
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