干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、曝光露光现象、残渣回沾、显影液老化、曝光时间过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。
经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题。
以IS
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干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、曝光露光现象、残渣回沾、显影液老化、曝光时间过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。
经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题。
以ISO100、125、160、200、250、320、400、500、640、800拍摄影灰卡共10张（这里以厂商标定的400度胶卷为例），另外盖上镜头盖拍一张无曝光的底片（注意：按不同的ISO测光后，都要减4档拍摄，目的是为了测定不同感光度下I区的底片密度）；
按个人常用显影时间和搅动方式冲洗；
等胶卷晾干后，接下来要做的就是用测光表测量底片的透光亮度，通过测得的EV值确定底片的密度，从而确定胶卷的实效感光度；
显影剂是对氧具有亲和力的有机化学还原剂，可以将金属从其盐中释放出来，如上所述，它们将照相乳剂中的卤化银转化为纯银。大多数现代显影剂（抗坏血酸和苯乙铜除外）由苯系列的复杂有机烃（称为芳烃）组成，其中大部分是从煤焦油中提取的。评估各种显影剂时要考虑的因素包括在水中的溶解度，产生雾的趋势，染色效果，对温度变化的敏感性，对xiu化物的反应，对溶液pH的敏感性，保持性能，对粒度的影响以及毒性。
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