荷兰的ASML公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术独立。主要是技术难度太大。
其次是资金上的困难：
光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。
荷兰的ASML,为了筹集i资金，同时也是进行上下游利益捆绑，研发风险共担，邀请英特尔、三
光刻版
荷兰的ASML公司垄断了高
i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术独立。主要是技术难度太大。
其次是资金上的困难：
光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索
i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。
荷兰的ASML,为了筹集
i资金，同时也是进行上下游利益捆绑，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。ASML实际上是美、日、韩、德等共同投资的项目，资金充裕。
也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。有相对宽裕的研发资金，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻和刻蚀有什么不同？
这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图解读，
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好自身找本半导体材料加工工艺的书看。
“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1。
“刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉（正胶），圆晶表层就凸显集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，产生集成电路工艺以及电源电路。
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。
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