现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法
涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。
此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对
真空镀膜机厂家
现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法
涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。
此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。光学监测是一种涂层优选的监控模式，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度(如果使用得当)。
精度的提高，由于许多因素，但根本的原因是光学厚度的监测。optimalswa-i-05单一波长的光学监测系统，是间接控制，镀膜机的光学监测软件结合王博士的发展，有效地改善和灵敏度变化的光反应的膜厚度的减少终的误差的理论方法，提供监测波长的反馈或传输模式的选择和广泛的。特别适用于涂布各种薄膜厚度监控包括不规则的膜。
真空设计应考虑节能减排低碳原则
传统的真空设计，对于真空室设计，为了节约加工成本，采用易加工简单的真空室，对抽真空系统设计，经常选用极限真空较高的机械泵、罗茨泵、扩散泵组合系统，但当前从节能减排的低碳要求出发，往往是不合理的，而且用户日后在长期运行中，能耗很大，使应用真空的产品后续成本大为提高。
过去的真空设计较多考虑真空室参数选用，抽气时间计算，真空室容积、抽气速率、漏率、压升率、极限真空、强度计算、真空管道分子流流导计算，真空系统的设计和选用。
当然这些都是需要的，在当时的历史经济背景下，很少考虑节能减排，而在当前的世界经济发展危及地球气候变暖，生态失去平衡，以及能源短缺的背景下，真空设计注重节能减排的低碳原则，同其它用电大户一样，有义不容辞的责任；
固然，这样改进真空设计，一般也可能降低真空设备制造成本，但有时即使设计中贯彻低碳原则，提高了些成本，也应在所不惜，譬如涉及抽气时间的真空室容积选择，不能一开始就选用圆柱形筒状，必须依低碳原则考虑一下其它形状能否更节能。
在现代的加工、焊接技术条件下，需要权衡一下把节能考虑的‘权重’提高。又譬如涉及极限真空的选择，不能一开始就追求选用高的极限真空的指标，极限真空非常高，当然能使背景真空非常洁净，对工艺有利，但不能无节制，常常在不影响工艺的条件下，可以选用极限真空不太高的指标。
真空镀膜机设计安全
安全保护系统对任何仪器设备都是很重要的。为保证整机设备和人身安全，对于用户来说，我们设计分配了2级的安全级别，即管理者和操作者。管理者可以修改工艺和参数，而操作者只能执行程序，查阅程序参数。
不论是工作在自动工作方式，还是手动维护方式，输出量的互锁保护都是非常重要的。为防止误操作，我们设计了互锁电路和程序互锁的2级互锁。条件不充分按错键时，系统给予提示不执行错误命令。系统中还增添了某些重要参数的安全区域报警或警告。通过红黄绿三色警示灯和讯响器的控制动作，分别实现各种情况的警示。如工艺过程中工艺气体充气流量稍设定流量时，给予黄灯讯响警告仍然继续工作，压力恢复后流量转为正常，绿色指示灯亮。但当流量设定的下限时，红灯点亮报警，停止工艺进程
镀膜机通过用户的使用和生产，证明整个程序化自动控制系统满足了用户的使用要求。
控制系统界面清晰友善、编程简单、操作方便、数据查阅迅速、系统稳定可靠、工艺重复性好，光学减反射膜层的透射率等性能指标完全符合航天GaAs太阳电池的要求，并为今后提高GaAs太阳电池的减反射膜层性能提供了良好的平台。
尽管如此，电子束蒸发镀膜机的发展在国内已有几十年，技术虽不断提高，但比较国外技术还有一定差距。本文对电子束蒸发镀膜机所应用的控制技术国际上虽然不是很新的技术，但此方面控制系统的应用，在国内生产的真空应用设备上还很少，且要能长期工作稳定可靠，还有很大的发展空间，这是和国内真空行业在真空应用设备上的整体发展水平相关的。
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