公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
根据金属化全过程，在硅衬底上布局一层层仅数纳米技术厚的金属材料层。随后在这里层金属材料上覆上一层层光刻胶。这层光阻剂在曝
i
光（通常是紫外光）后能够 被特殊水溶液（显影液）融解。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上，能够 对光刻胶开展可选择性直射（曝
苏打铬板
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
根据金属化全过程，在硅衬底上布局一层层仅数纳米技术厚的金属材料层。随后在这里层金属材料上覆上一层层光刻胶。这层光阻剂在曝
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光（通常是紫外光）后能够 被特殊水溶液（显影液）融解。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上，能够 对光刻胶开展可选择性直射（曝
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光）。随后应用前边提及的显影液，融解掉被直射的地区，那样，光掩模上的图型就展现在光刻胶上。这里提到的衬底不仅包括硅晶片，还包括其他金属层和电介质层，例如SOS中的玻璃和蓝宝石。一般 还将根据风干对策，改进剩下一部分光刻胶的某些特性。所述流程进行后，就能够 对衬底开展可选择性的刻蚀或离子注入全过程，未被融解的光刻胶将维护衬底在这种全过程中不被更改。
掩膜（MASK）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是：程序流程靠谱、低成本。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。
因为掩膜版是设计构思和生产制造的关键对接，圆晶生产商常有自身的技术加工厂来生产制造本身必须的掩膜版，因而优
i秀的掩膜版技术性都是把握在具备优
i秀圆晶生产制造焊锡的晶圆厂手上。但近些年掩膜版业务外包的发展趋势十分的显著，非常是针对某些
60nm
及
90nm
左右焊锡的中低端商品。铬的强度比夹层玻璃略小，虽不容易损伤但是将会被夹层玻璃所损害。
业务外包的掩膜版市场占有率从2003
年里的
30%升高至
2014
年的
53%。
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