磁 控 靶
磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面
(1)对于表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；
(2)当膜层材料为贵重金属时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该贵重金属的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/
常规圆形平面靶规格:
1.靶材尺寸：Ф50m
CF50高温束源炉厂家
磁 控 靶
磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面
(1)对于表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；
(2)当膜层材料为贵重金属时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该贵重金属的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/
常规圆形平面靶规格:
1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各类磁控靶
2.永磁靶（可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；
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高温束源炉的特点
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温度控制和均匀的基于SCR 功率输出电源实现准确的沉积速率控制，并确保高质量的，均匀的膜。
◆ 使用PID 控制器进行温度控制，控制在±1℃
◆ 自动调节模式
◆ 可调节报警条件
◆ 速率控制输入与沉积控制相兼容
溅射靶材的作用是什么？
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子 ,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
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