公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。普遍的光掩膜的类型有几种，铬版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。关键分2个构成，基钢板和不透原材料。基钢板一般 是高纯，低透射率，低线膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透层是根据溅
掩膜版
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。普遍的光掩膜的类型有几种，铬版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。关键分2个构成，基钢板和不透原材料。基钢板一般 是高纯，低透射率，低线膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透层是根据溅射的方式镀在夹层玻璃正下方厚约0.1um的铬层。铬的强度比夹层玻璃略小，虽不容易损伤但是将会被夹层玻璃所损害。运用于集成ic生产制造的光掩膜为高敏感性的铬版。还包括驱动单元，用于向所述阵列像素单元施加等级电压，以控制所述掩模版的入射光通过强度。
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。
接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。
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在衬底上形成的图案是1∶1，并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式曝光
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光线；但近些年掩膜版业务外包的发展趋势十分的显著，非常是针对某些
60nm
及
90nm
左右焊锡的中低端商品。另一方面，缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。
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在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式曝光
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光明。
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