真空电镀的特点
1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)，能够严格出啤件表面的形。
2、工作电压不是很高(200V)，操作方便，但设备较昂贵。
3、蒸镀锅瓶容积小，电镀件出数少，生产效率较低。
4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。
5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。
6、真空镀
电子3C产品外壳真空电镀工艺
真空电镀的特点
1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)，能够严格
出啤件表面的形。
2、工作电压不是很高(200V)，操作方便，但设备较昂贵。
3、蒸镀锅瓶容积小，电镀件出数少，生产效率较低。
4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。
5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。
6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PC等
真空电镀厂介绍影响电镀质量的因素
真空电镀厂介绍，影响电镀质量的因素很多﹐包括镀液的各种成分以及各种电镀工艺参数。利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。下面就其中某些主要因素进行讨论。=
pH值的影响
镀液中的pH值可以影响氢的放电电位﹐碱性夹杂物的沉淀﹐还可以影响络合物或水化物的组成以及添加剂的吸附程度。通过加入缓冲剂可以将pH值稳定在一定范围。
添加剂的影响
真空电镀厂阐述，镀液中的光亮剂﹐整平剂﹐润湿剂等添加剂能明显改善镀层组织。
电流密度的影响
任何电镀都必须有一个能产生正常镀层的电流密度范围。当电流密度过低时﹐阴极极化作用较小﹐镀层桔晶粗大﹐甚至没有镀层。随着电流密度的增加﹐阴极极化作用随着增加﹐镀层晶粒越来越细。
搅拌的影响
真空电镀厂概述，搅拌可降低阴极极化﹐使晶粒变粗﹐但可提高电流密度﹐从而提高生产率。此外搅拌还可增强整平剂的效果。
真空电镀生产在现代制造业中仍据有一席之地这一事实，说明电镀技术是可以跟进高新技术工业的提高的。这种模式要求电镀生产单位不仅仅是从电镀工艺和环境保护的角度来制定方案，而且要从合理的能源结构、资源的节省和再利用多方面为可持续发展留有充分的余地，好比，基本上将采用水的无排放技术，也就是所谓的。置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
真空电镀膜对UV底漆的要求 在真空镀膜前要在塑料基材表面进行UV涂装的主要原因有以下两点:
，通过UV涂层来封闭基材，防止真空电镀膜时或工件使用时基材中的挥发性杂质逸出，影响镀膜质量。像在车灯反射罩应用时，由于在使用过程中温度会升到100℃以上，基材中如有挥发性杂质释放会使镀铝层发彩、变色、影响反射效果。
第二，提高基材表面平整度，确保获得镜面的镀膜效果
真空电镀在生活中应用广泛，各种金属经过电镀后有什么效果呢？精美钛金有限公司在这里在为大家讲述一下常见的七种金属通过电镀后产生的效果：
1.镀钯镍，可以改善导电接触，阻抗，增进信号传输，但性比金佳。
2.镀锌，提高镀件的耐锈蚀性能，延长产品的防锈时间。
3.镀银，银延展性好，便于钎焊，具有极强的反光能力和电导率，增加商品的美感
4.镀金，可以改善导电接触，阻抗，增进信号传输。
5.镀镍，打底或做外观，增进抗腐蚀能力，。
6.镀锡铅，增进焊接能力，快被其他替代物取代。
7.镀铜，起到打底的作用，可以增进电镀层的附着能力，抗腐蚀。
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