1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。
2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。
3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
拉丝面曝光显影工厂
1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。
2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。
3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
4.显影液去除并且清洗：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。
5. 甩干：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速
1、背胶/贴膜加工服务：背胶加工的产品后期组装更为便捷，所以很多客户要求进行无连接点蚀刻，要求背胶/贴膜辅助，鑫海森因此开发了背胶加工协助厂商，经过多次考察合作，现在有着稳定的背胶合作伙伴，加工质量也一直收到客户肯定。
2、冲压服务：冲压主要是针对一些标牌铭牌的产品，蚀刻加工是有厚度限制的，一般单面蚀刻深度在0.5mm。而一些产品，蚀刻厚度在0.5mm以内，但外形厚度2-3mm，针对这样的产品鑫海森提供冲压加工，为客户加工出产品外形。
温度与湿度对贴膜的影响：不同的干膜都有比较适宜的贴膜温度。如贴膜温度过低，由于抗蚀膜得不到充分的软化和适当的流动，导致干膜与覆铜箔层压板表面结合力差；若温度过高由于抗蚀剂中的溶剂和其它挥发性物质的迅速挥发而产生气泡，而且干膜变脆而不耐电镀形成起翘剥离，造成渗镀而报废。目前使用的无锡DFP型和美国杜邦3000型的干膜，一般控制的贴膜温度为70-900C.
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