光氧催化设备能去除挥发性有机物、无机物、可适应高浓度，大气量，不同有机化学气体物质的净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。废气无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30o－95o之间，该设备运行的过程中没有任何的机械动作，也不会发出噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件。采用国际上技术理念，通
有机光氧催化设备参数
光氧催化设备能去除挥发性有机物、无机物、可适应高浓度，大气量，不同有机化学气体物质的净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。废气无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30o－95o之间，该设备运行的过程中没有任何的机械动作，也不会发出噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件。采用国际上技术理念，通过及我公司工程技术人员长期反复的试验，开发研制出的，具有完全自主研发的高科技环保净化产 品，可分解恶臭气体中有毒有害物质，并能达到完美的脱臭效果，经分解后的恶臭气体，可完全达到无害化排放，绝不产生二次污染，同时达到消菌的作用。光化学氧化技术是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反应过程。
光氧催化废气处理
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原理：
在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子（e-）就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴（h+）。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得到抑制，就会在催化剂表面发生氧化还原反应。K等人研究发现有机物的半导体光催化过程由羟基自由基（OH）引起，在体系中加入H2O2可增加OH的浓度。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，
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是目前研究较多的一项氧化技术。所谓光催化反应，就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射，受激产生分子激发态，然后会发生化学反应生成新的物质，或者变成引发热反应的中间化学产物。光化学反应的活化能来源于光子的能量，在太阳能的利用中光电转化以及光化学转化一直是十分活跃的研究领域。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，。
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