应用多层膜干涉原理的薄膜防伪技术主要有两种：一种是“整膜”的薄膜防伪技术；另一种是“碎膜”防伪技术。整膜和碎膜是指膜的形态而言。整膜是指一般意义上的防伪膜系；碎膜是指对反射式防伪膜系进行破碎，然后将碎片加入油墨中制成防伪油墨，再用这种防伪油墨进行防伪印刷。
防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜转移式或间
手机壳光学镀膜加工厂
应用多层膜干涉原理的薄膜防伪技术主要有两种：一种是“整膜”的薄膜防伪技术；另一种是“碎膜”防伪技术。整膜和碎膜是指膜的形态而言。整膜是指一般意义上的防伪膜系；碎膜是指对反射式防伪膜系进行破碎，然后将碎片加入油墨中制成防伪油墨，再用这种防伪油墨进行防伪印刷。
防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜转移式或间接镀膜剪贴式。
虽然镀膜的光学现象在很早就为人们所注意，但是把光学镀膜作为一个课题进行专门研究却开始于20世纪以后，这主要因为真空技术的发展给各种光学薄膜的制备提供了先决条件。发展到今日，光学镀膜已得到很大发展，光学镀膜的生产已逐步走向系列化、程序化和化，但是，在光学镀膜的研究中还有不少问题有待进一步解决，光学镀膜现有的水平在不少工作中还不能满足要求，需要提高。
由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损耗大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质反射膜增加了某一波长（或者某一波区）的反射率，却破坏了金属膜中性反射的特点。
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