四种常见的真空镀膜材料
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物：氟化钕NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化镁MgF2，LaF3，氟化钇YF3，氟化镱Yb
纳米镀膜加工厂
四种常见的真空镀膜材料
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物：氟化钕NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化镁MgF2，LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。
3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，CdS等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟合金CuInGa，铜铟硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
利用新纳米技术开发的功能金属氧化物薄膜材料（Functional Thin-Film Metal-Oxides Materials，具有优良的电磁传导、物理化学和机械性能，可广泛应用于节能照明、显示电子、化合物检测、柔性透明和气体传感等领域，具有开启后硅基半导体电子新时代的巨大潜力。欧盟第七研发框架计划（FP7）提供980万欧元资助，总研发投入1340万欧元，由欧盟8个成员国德国（总协调）、英国、意大利、比利时、荷兰、葡萄牙、希腊和斯洛文尼亚，微纳米电子工业界联合科技界组成的欧盟微纳米电子技术平台（ORAMA ETP）。在建立紧密合作型研发公私伙伴关系（PPP）的同时，将长期致力于功能金属氧化物薄膜材料的研制开发及商业化推广应用。
首饰振动电镀以溅射的方法进行真空镀膜，由于其镀膜方式的不同，同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的，虽然肉眼无法看出来，但确实拥有一定的优势。 膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了。
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