掩膜版：通俗化点了解，等于以往用胶卷冲洗照片时的胶片照片。胶片照片假如精密度不足，是洗不出去高精相片的。光刻技术工程施工前，要依据设计构思好的集成ic电路原理图制做掩膜板。掩膜板材料是石英玻璃，夹层玻璃上带金属铬和光感应胶。根据激光器在金属铬上绘图电路原理图。精密度规定十分高。
镜片：用镜片的电子光学基本原理，将掩膜版上的电路原理图按占比变小，再用灯源投射的硅片上。光在数次投影时会造成电子光学
光刻版
掩膜版：通俗化点了解，等于以往用胶卷冲洗照片时的胶片照片。胶片照片假如精密度不足，是洗不出去高精相片的。光刻技术工程施工前，要依据设计构思好的集成ic电路原理图制做掩膜板。掩膜板材料是石英玻璃，夹层玻璃上带金属铬和光感应胶。根据激光器在金属铬上绘图电路原理图。精密度规定十分高。
镜片：用镜片的电子光学基本原理，将掩膜版上的电路原理图按占比变小，再用灯源投射的硅片上。光在数次投影时会造成电子光学偏差。要操纵这一偏差。为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏，通常在掩模上设置保护膜，并且保护膜由有机材料制成。精密度规定很高。
就是说精准测量台中移动的控制板，都是氧化硅精密度，规定极高。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。
掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。
其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。
在容栅电子光学微影技术性中，光罩表层的挡光图样会与基钢板上的光阻层触碰磨擦，非常容易促使挡光图样损耗促使光罩使用期减少。另一个，当施胶光亮阻层的基钢板表层并不是十分整平时，光罩与光阻层会造成不确定性的间隙与间距，而导致光源的光学散射与绕射，从而导致曝
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光的规格偏差，而且导致光阻层浅部一部分的侧面曝
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光范畴扩张，因此没法制做出深奥长宽比的光阻构造。赓旭光学光学镜片可用以生产制造光学设备中的滤光片、镜片、棱镜、反射镜片及对话框等。
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