光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶(又称光致抗蚀剂)，是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。彩色薄膜少了光刻胶，产生不了绚丽的画面显示器是人与机器沟通的重要界面。光刻胶具有光化学敏感性，其经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料，被广泛应用于
负性光刻胶供应商
光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶(又称光致抗蚀剂)，是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。彩色薄膜少了光刻胶，产生不了绚丽的画面显示器是人与机器沟通的重要界面。光刻胶具有光化学敏感性，其经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。
光刻胶市场
光刻胶市场扩增，对光刻胶的总需求不断提升。②光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，其经光照后,发生光分解反应，可以制成正性胶。据估计，2015年国际光刻胶市场达73.6亿美元，其中PCB光刻胶占比24.5%，LCD光刻胶占26.6%，半导体光刻胶占比24.1%。2010年到2015年期间，国际光刻胶市场年复合增长率约为5.8%；据产业信息网数据，2015年，PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶的国际市场增速均在5%左右。在下游产业的带动下，江瀚咨询预计国际光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。
PR1-2000A1负性光刻胶供应商
4,曝光
前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行曝光，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，
光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；
对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。
曝光时间，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，
另外，为降低驻波效应影响，可在曝光后需进行烘焙，称为光后烘焙（PEB）
 企业名片
|
北京赛米莱德贸易有限公司
况经理(False) / |
|
联系地址：中国· 北京市· 北京市·北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208（邮编:100000） 联系电话：010-63332310 手机：15201255285
联系传真：010-63332310
电子邮箱：info@semild.com 联系QQ：214539837
|
