什么是蒸发镀膜？
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。
ZF350
300C有机无机联合蒸发镀膜机厂
什么是蒸发镀膜？
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。
ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。
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电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍
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蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发,连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中,原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，随着蒸气原子不断地冲击表面,各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。
小方分子提纯设备300C有机无机联合蒸发镀膜机厂
小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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