公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。
为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏，通常在掩
光罩
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复
i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复
i制至相片上。
为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏，通常在掩模上设置保护膜，并且保护膜由有机材料制成。当保护膜接触要蒸发的基板时，保护膜对要蒸发的基板造成的损害小于掩模对要蒸发的基板造成的损害。
掩膜（MASK）就是指单片机设计掩膜就是指程序流程统计数据早已制成光刻版，在单片机设计生产制造的全过程中把程序流程做进来。优势是：程序流程靠谱、低成本。缺陷：大批量规定大，每一次改动程序流程就必须再次做光呆板，不一样程序流程不可以一起生产制造，交货期长。光刻正性胶在经激光器直射后，曝
i
光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。
（作者： 来源：）
