真空镀膜机首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。首要思路是分红蒸发和溅射两种。需要镀膜的被变成基片，镀的材料被变成靶材。 基片与靶材同在真空腔中。真镀膜设备在重新开机时要特别注意捡漏工作，先观察扩散泵部分是否达到6*10PA，否则需要进行检漏。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以
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真空镀膜机首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。首要思路是分红蒸发和溅射两种。需要镀膜的被变成基片，镀的材料被变成靶材。 基片与靶材同在真空腔中。真镀膜设备在重新开机时要特别注意捡漏工作，先观察扩散泵部分是否达到6*10PA，否则需要进行检漏。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子方法被蒸发出来，而且沉降在基片表面，经过成膜进程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）构成薄膜。
用真空镀膜设备电镀的方法可以在金属或非金属制件表面得到功能各异的多种镀层，满足在不同环境中对制件的使用要求。它们涉及四大类：耐腐蚀、损、减摩；2、真空蒸发镀膜机在生产的时候产品必须要用烤箱完全干燥之后才能进炉镀膜。装饰、美化；声、光、磁、电的转换，以及其他方面如催化、杀菌等。内容包括单金属镀层、合金镀层、复合镀层、磷化、钝化、化学氧化、电化学氧化等。目前研究方向包括：合金电镀、激光电镀、微粒弥散复合电镀、纤维增强复合电镀、梯度功能复合电镀、微弧氧化等。
炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。真空镀膜设备根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
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