手术室净化工程中的注意事项
净化中人和物的控制
人和物是洁净室的主要尘源，因此必须充分控制，例如：在进入净化房前，所有的人都要经过人净系统，更换无尘衣，并且要接受净化系统功能的基本教育。
手术室净化工程给排水和送风装置及电源
手术室净化工程根据所要运行的手术室，提供必须的给排水装置，送风装置和电源，这些装置和所涉及的设备必须易于使用和设计，同时
1万级净化工程
手术室净化工程中的注意事项
净化中人和物的控制
人和物是洁净室的主要尘源，因此必须充分控制，例如：在进入净化房前，所有的人都要经过人净系统，更换无尘衣，并且要接受净化系统功能的基本教育。
手术室净化工程给排水和送风装置及电源
手术室净化工程根据所要运行的手术室，提供必须的给排水装置，送风装置和电源，这些装置和所涉及的设备必须易于使用和设计，同时不得有勃于空气净化系统。
洁净车间管理中常见的问题
1、故障现象：初效过滤器脏污堵塞
故障结果：新风、回风混合进风量不足，空调风机输出流量不够造成洁净室正压不足。
解决办法：每月（30天）进行一次清洗，清洗三次后更换新的滤布
2、故障现象：空调风机皮带太松或断开脱落
故障结果：洁净室正压很小或没有正压。
解决办法：每班检查一次。
3、风机轴承每月（30天）加注一次润滑油脂，否则电机轴承会卡死烧毁电机。
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产zui佳温度范围为35—45%。现在我们的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。
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