电子束镀膜设备介绍
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。
电子束蒸镀（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀可以镀出高纯度的薄膜。
电子束蒸发镀膜机设备性
双枪电子束镀膜机公司
电子束镀膜设备介绍
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电子束蒸镀（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀可以镀出高纯度的薄膜。
电子束蒸发镀膜机设备性能介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——生产、销售电子束产品，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创。
设备性能技术指标：
1、设备极限真空度：5×10-5Pa（电子枪静止状态）。
2、设备总体漏放率：关机12小时后，真空度≤8Pa。
3、从大气到抽到≤9×10-4Pa，40min(新设备充干燥氮气)，提高了工作效率。
4、真空漏率：≤10-7Pa.l/s
电子束镀膜属于蒸镀还是溅射？
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1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物理气相沉积（PVD）的工艺方法。
2.蒸发镀主要包括：电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。
3.您所说的E型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。
4.S枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶，阴极靶材为环状锥形，安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场，其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。电子束被约束在靶面附近运动，电子流密度很大，在靶面附近产生很强的非弹性碰撞，电离几率很大，形成很强的等离子体。
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