公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
菲林在使用中需注意的事项
其他条件不变，显影液的浓度越高，温度越高，则胶片的高密越高。如果用国产的显影液(例如：爱比西SH-1000)冲洗胶片，一般要将药液按1：4～1：3稀释，要注意显影温度设定过高会使显影液因蒸发、氧化速度过快而失效，造成菲林灰
光刻板
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
菲林在使用中需注意的事项
其他条件不变，显影液的浓度越高，温度越高，则胶片的高密越高。如果用国产的显影液(例如：爱比西SH-1000)冲洗胶片，一般要将药液按1：4～1：3稀释，要注意显影温度设定过高会使显影液因蒸发、氧化速度过快而失效，造成菲林灰雾度过高，同时高密达不到要求。也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。推荐温度为34～36℃，并且要在显影温度稳定且达到设定温度时再测密度和做线性化。
什么叫掩膜
i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。
在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其功效是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。若使高倍显微镜，会发觉甚多时丝印网版单是感色层及不一样成分的显影药膜都超出13层，而不一样药膜中间又会随時间及室内空气危害，令质量一落千丈。
图象掩膜两者之间相近，用选中的图象、图型或物块，对解决的图象（所有或部分）开展挡住，来操纵图象处理的地区或处理方式。
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光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字
MASK
或
PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝
i
光的这种构造，称之为光刻掩模板。蚀刻或离子注入完成后，将进行光刻的一步，即光致抗蚀剂去除，以促进半导体器件制造的其他步骤。
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