光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字
MASK
或
PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细化学品，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格
制版
光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字
MASK
或
PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细化学品，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格，现阶段光掩模板大部分全是用的正性胶。光刻正性胶在经激光器直射后，曝
i
光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。）把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝
i
光在光感应胶上,被曝
i
光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝
i
光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射
i精准定位，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝
i
光，显影，去光感应胶，终运用于光蚀刻工艺。
荷兰的ASML公司垄断了高
i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司，自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术独立。主要是技术难度太大。
其次是资金上的困难：
光刻机由于技术难度大，研发资金投入巨大，以至于佳能和索
i尼都亏损严重，已经停止研发，退出未来技术的竞争。
荷兰的ASML,为了筹集
i资金，同时也是进行上下游利益捆绑，研发风险共担，邀请英特尔、三星和台积电出资，做自己的大股东。ASML实际上是美、日、韩、德等共同投资的项目，资金充裕。
也在此方面有长期投入，但投入水平和不能和多国合作同日而语。有相对宽裕的研发资金，也才是近7、8年的事情，而光刻机的研发，10年都显然不够。
光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字
MASK
或
PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在我国的光掩膜版制造行业仅可以满足中低端商品市场需求，高
i
档光掩膜版则由海外企业立即出示。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝
i
光的这种构造，称之为光刻掩模板。
（作者： 来源：）
