氟化镁在高温时易发生氧化或水解反应，生成氧化镁杂质，氧化镁熔点较高，不易挥发，残留在生长体系中的氧化镁会导致晶体过滤降低，并造成晶体内部产生散射颗粒等缺陷，因此在整个晶体生长过程中必须避免氧气及水汽存在。在氟化镁原料中需要加入一定质量百分比的除氧剂，这样不仅能有效除去原料和晶体炉内的水分，还可以进一步氟化原料，避免氟化镁晶料水解或氧化。
氟化镁晶体在光学领域的应用
多晶氟化镁
氟化镁在高温时易发生氧化或水解反应，生成氧化镁杂质，氧化镁熔点较高，不易挥发，残留在生长体系中的氧化镁会导致晶体过滤降低，并造成晶体内部产生散射颗粒等缺陷，因此在整个晶体生长过程中必须避免氧气及水汽存在。在氟化镁原料中需要加入一定质量百分比的除氧剂，这样不仅能有效除去原料和晶体炉内的水分，还可以进一步氟化原料，避免氟化镁晶料水解或氧化。
氟化镁晶体在光学领域的应用
氟化镁是一种重要的光学薄膜材料，特别是，紫外线波段低吸收的特点使其成为该波段为数不多的光学薄膜材料之一，光学薄膜的应用极为广泛主要有：金属反射镜的保护膜、氟化镁增透膜和增反膜、氟化镁光子晶体、金属氟化镁复合纳米金属陶瓷薄膜。
未来随着科学技术的不断发展，氟化镁的应用领域会越来越广，将会在更多技术领域中发挥出越来越重要的作用。
热忱欢迎广大新老客户惠顾指导，让我们的氟化镁产品伴随您的事业共的篇章。
中文名称：氟化镁
氟化镁在高能辐射下只有略微影响是用于太空工作站优选的紫外线辐射光学元件。已经证实氟化镁材料的激光损伤阈值高且不产生色心相比氟化钙材料更适用于受激准分子激光器的光学窗口材料。由于氟化镁的化学成份特性决定了氟化镁是用于氟化环境的优选材料。
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