磁控溅射系统介绍
想了解更多关于磁控溅射产品的相关资讯，请持续关注本公司。
真空泵和测量装置：
低真空：干泵和convectron真空规
高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规
5.控制系统：
硬件：PLC和计算机触摸屏控制
自动和手动沉积控制
主要特点：
射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积
温度控制器：基底加热
线列式磁控溅射镀膜机供应
磁控溅射系统介绍
想了解更多关于磁控溅射产品的相关资讯，请持续关注本公司。
真空泵和测量装置：
低真空：干泵和convectron真空规
高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规
5.控制系统：
硬件：PLC和计算机触摸屏控制
自动和手动沉积控制
主要特点：
射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积
温度控制器：基底加热
基底传送装置
冷却系统
小型磁控溅射镀膜系统简介
小型磁控溅射镀膜系统适合于溅射镀膜科研、教学与小批量打样，可、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。
具有一体化、占用空间小、灵活的特点，无需380V工业电，无需额外冷水机，采用无油干泵分子泵组，无需操心真空系统和操作间环境泵油污染。
核心部件采用国际，保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。触摸屏控制界面，带来简单、操作方便的体验。
想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！
（作者： 来源：）
