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台湾玻璃真空镀膜设备在线咨询

PVD是物理气相沉积技术的简称,是指在真空条件下,采用物理的方法将材料(俗称靶材或膜料)气化成气态分子、原子或离子,并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术,常见的PVD沉积技术有:蒸发技术、溅射技术、电弧技术。 目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以
玻璃真空镀膜设备





PVD是物理气相沉积技术的简称,是指在真空条件下,采用物理的方法将材料(俗称靶材或膜料)气化成气态分子、原子或离子,并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术,常见的PVD沉积技术有:蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物理气相沉积等。







PVD技术制备的镀层的稳定性好、膜基结合力高、致密度高,在冷热交变环境下的防腐能力较强;另外,在PVD施镀过程中,镀层厚度受磁体工件边角的影响远电镀和化学镀,且制备过程不存在污染问题。

1、镀膜技术在装饰品方面的应用

随着经济的发展和生活水平的提高,人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。




镀膜技术在建筑玻璃和汽车玻璃上的应用

  建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量,这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射,普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外,但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。随着经济的发展,普通玻璃已越来越不能满足人们的要求。而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求;而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和阻止室内热量外流的要求。








真空电镀设备膜厚的不均匀问题



无论监控仪精度怎样,它也只能控制真空室里单点位置的膜厚,一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的,那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性,但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的,所以几乎是不可能消除的,但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中,越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统,同时,用户对性能的要求不仅没有降低,反而有所提高,特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。

现在,系统的平均尺寸规格已经在降低,而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此,选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑:对镀膜产品的预期性能,基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。









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