四种常见的真空镀膜材料
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO
大型磁控溅射镀膜机
四种常见的真空镀膜材料
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
真空镀膜机镀膜技术和湿式镀膜技术
随着科学技术的发展，真空镀膜技术成为了各行各业提高产量的手段，真空镀膜所需费用较低经济效益显著让越来越多的企业跃跃欲试，我国生产的真空镀膜机已经达到了相当水平，可以镀制的真空镀膜材料也越来越多，但和国外的设备对比也存在着一点差距，对于真空技术的研发有待提高。
真空镀膜技术的膜材选材广泛，可以控制膜的厚度并镀制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具备许多新的化学和物理性能。湿式镀膜技术是过去的一种镀膜方式，即化学镀或者电镀，是应用化学还原的原理沉积在材料上，这种方法会产生废液污染环境，以往很多电镀设备厂因为污染问题纷纷转变镀膜工艺。
真空镀膜技术镀制的薄膜，膜层不易受到污染，在真空环境中可以提高纯度和致密性，不产生废液不污染环境。真空镀膜本身污染，但是实际镀制中会用到有机涂料，所以也会产生污染，然而相比湿式电镀技术，污染小很多，真空镀膜技术生产具有很强的生命力，但也不是说真空镀膜技术就可以完全取代传统的湿式镀膜技术了，在膜层的厚度，耐老化上湿式镀膜法仍然占据优势，真空镀膜镀制的膜层比较薄。
另外，牢固的膜层是受工艺和附着力所影响，不管是真空镀膜技术还是湿式镀膜技术，如果材料表面没有清洁干净都会影响膜层和材料的结合。
真空镀膜机薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。
2.化学组分上的均匀性：即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。
3.晶格有序度的均匀性：这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题。
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