制药GMP车间生产环境温湿度要求
制药GMP车间洁净区一般控制在20-24C ,相对湿度为45%-60% ,有一定洁净度要求的生产车间和辅助车间一般控制在18-28C ,相对湿度为50%-65%。不同级别的GMP车间以及洁净区与非洁净区之间的静压差应大于或等于5Pa ,生产中有粉尘扬起的工序所在操作室与其他操作室或前室之间应保持相对负压；与无药直接接触的设备应采用不与药起作用
手术室净化工程
制药GMP车间生产环境温湿度要求
制药GMP车间洁净区一般控制在20-24C ,相对湿度为45%-60% ,有一定洁净度要求的生产车间和辅助车间一般控制在18-28C ,相对湿度为50%-65%。不同级别的GMP车间以及洁净区与非洁净区之间的静压差应大于或等于5Pa ,生产中有粉尘扬起的工序所在操作室与其他操作室或前室之间应保持相对负压；与无药直接接触的设备应采用不与药起作用的材料，应尽量避免制药车间的成品传送带与分装传送带二者的联合,防止回程污染,较好在传递窗处断开，两侧分设,在窗内设灭菌紫外灯,分装带上部设有有机玻璃防尘罩;在同一-生产区生产不同品种时，应严格管理，并采取隔离措施,防止混杂和感化。
洁净空间内各种管道、灯具、风口以及其他公共设施,在设计和安装时应考虑使用中避免出现不易清洁的部位应经净化处理并符合要求,排风口应远离其他空气净化系统的进风口;制药GMP车间内的排水口以下部位必须设置水封。
净化工程应用领域及介绍：
净化工程有很多很多可爱的人儿问我是不是做净化水的，或者做净水器的，我的总是摇摇头，只能和那些可爱的人说净化工程包含着净化水行业，那么什么是净化工程，他们又应用在那哪个领域呢？我们一起学习一下吧！
什么是净化工程：
净化工程俗称无尘车间、净化车间、洁净室等。其主要原理是排除一定空间范围内空气中的微粒、有害空气和细菌等污染物，并将室内温湿度、洁净度、室内压力、气流速度和气流分布、噪声振动、照明和静电控制在要求的范围内。主要是准确控制清洁度、温度和湿度，改善工作环境，提高成品率。净化工程所特别设计的房间，不论外在空气条件如何变化，室内均具有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能。
净化工程是一个基础配套产业，应用领域广泛，主要有：食品行业、实验室、生产车间、理疗事业等。
我们的生活中无时无处不有净化的影子，净化与我们息息相关。我们要热爱净化热爱生活！
干净空间的温湿度首先是根据工艺要求来确定，但正在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的温馨度感。跟着空气干净度要求的进步，呈现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。详细工艺对温度的要求以后还要列举，但做为总的本则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度颠簸范畴的要求越来越小。
技术要求：净化车间技术对我国电子信息产业发展意义重大，因为它与产品的成品率有着直接关系。
例如正在大规模集成电路消费的光刻曝光工艺中，做为掩膜板质料的玻璃取硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。曲径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了线性膨胀，所以必需有±度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对卖得货将有污染，出格是怕钠的半导体车间，那种车间温度不宜超越25度，湿渡过高发生的问题更多。效率也大大提升，人工完成一个摄像头的生产需秒，如今用自动生产线只需秒—秒，效率提升达%—%，并且有进一步提升空间。
相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，假如发作正在精细安装或电路中，就会引起各类事故。相对湿度正在50%时易生锈。
（作者： 来源：）
