显影是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解，将可见的岛或者窗口图形留在硅片表面。常见的显影方法是旋转、喷雾、浸润，然后显影。硅片用去离子水冲洗后甩干。非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应，在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非曝光区的光刻胶被保留下来。经过曝光的正胶是逐渐溶解的，中和反应只在光刻胶的表面进行，因此正胶受显影液的影响相对比较小。对于负
平面曝光显影加工
显影是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解，将可见的岛或者窗口图形留在硅片表面。常见的显影方法是旋转、喷雾、浸润，然后显影。硅片用去离子水冲洗后甩干。非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应，在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非曝光区的光刻胶被保留下来。经过曝光的正胶是逐渐溶解的，中和反应只在光刻胶的表面进行，因此正胶受显影液的影响相对比较小。对于负胶来说非曝光区的负胶在显影液中首先形成凝胶体，然后再分解，这就使得整个负胶层都被显影液浸透。在被显影液浸透之后，曝光区的负胶将会膨胀变形。
所使用的为水熔性干膜，空气中的湿度对其影响较大。当湿度较大时，干膜的粘结剂在贴膜温度较低时可达到良好的粘结效果。特别南方地区夏季气温偏高，从长期的实践中摸索一套较好的温度控制参数，在20-250C情况下，相对湿度75％以上时，贴膜温度730C较好；相对湿度为60-70％时，贴膜温度70-800C较好；相对湿度为60％以下时，贴膜温度高于800C为好。同样加大贴膜胶辊的压力和温度，也取得较好的效果。
在清洁方面，UV油墨在印刷后会立即放进固化设备中进行固化，因此印品接触杂质不多，可保持产品清洁。而溶剂型油墨在印刷后需很长时间进行干燥，当环境中灰尘较多时，会对产品产生污染。当制作发光标志牌时，往往需要印刷得较厚，需要多次印刷才能达到厚度要求，这时采用传统油墨进行印刷在每一次印刷后都要在烘道中走一次，需要耗费大量时间和能源。而采用UV固化油墨进行印刷，则不需要在烘道中进行烘干，每一次印刷后立即可以固化，进行下一步工序，大大节省了时间和能源。
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