镭雕是指激光雕刻，是通过激光束的光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图形、文字；镭雕即激光加工原理：
1.利用激光器发射的高强度聚焦激光束在焦点处 . 使材料氧化因而对其进行加工.
2.打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物 质,或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化 出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 而“
布激光打标技术
镭雕是指激光雕刻，是通过激光束的光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图形、文字；镭雕即激光加工原理：
1.利用激光器发射的高强度聚焦激光束在焦点处 . 使材料氧化因而对其进行加工.
2.打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物 质,或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化 出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 而“刻”出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 显出所需刻蚀的图形,文字。1964年，钱学森院士提议取名为“激光”，既反映了“受激辐射”的科学内涵，又表明它是一种很强烈的新光源，贴切、传神而又简洁，得到我国科学界的一致认同并沿用至今。苏州激光镭雕加工厂，苏州激光镭雕代加工，苏州激光镭雕厂家
半导体镭雕机
特点：其发光源采用的是半导体列阵，所以光光转换效率非常高，达到40%以上；在老一辈带领下，一批青年科技工作者迅速成长，邓锡铭是其中的突出代表。热耗损低，无需单独配备冷却系统；耗电少，1800W/H左右。整机性能非常稳定，属于免维护产品，整机免维护时间可达到15000小时，相当于10年免维护，没有灯的更换，无耗材。
配置：1.激光器 2.扫描振镜 3.聚焦透镜 4.Q开关 5.控制软件 6.软件Windows98/2000/XP 7.冷却系统 8.静态标记 9.标准字体，并特殊设计手写字体输入功能 10.输入电源220VAC 11.激光输出功率0-100W 12.打标频率0.5－50KHZ 13.整机功率1800W 14.线宽0.03mm 15.标刻深度 ≤1毫米（视材料可调） 16.标刻速度 ≤7000㎜/s 17.小字符0.5mm 18.打标范围 标准:110mm×110mm 19.精密三维升降操作台
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“6403”高能钕玻璃激光系统 1964年启动，从技术上判定热效应是根本性技术障碍，于1976年下马。这一项目对发展高能激光技术有历史贡献是不可忽视的，它使我国激光技术的水平上了一个台阶。其成果主要表现在：
1.建成了具有工程规模的大口径（120毫米）振荡—放大型激光系统，输出能量达32万焦耳；改善光束质量后达3万焦耳。在晶体管、片式元器件、IC、陶瓷电容、热敏电阻等上标刻商标型号等，字符清晰美观，不会磨损。
2.实现了系统技术集成，成功地进行了打靶实验，室内10米处击穿80毫米铝靶，室外2公里距离击穿0.2毫米铝耙，并系统地研究了强激光辐射的生物效应和材料破坏机理。
3.首揭示了强光对激光系统本身的光损伤现象和机制
4..首深
入和理解激光光束质量的重要性和物理内涵，采用了一系列提高光束质量 的性技术，如万焦耳级非稳腔激光器、片状激光器、振荡—扫瞄放大式激光系统、尖劈法光束质量诊断等。
5.激光元器件和支撑技术有了突破性提高，如低吸收高均匀性钕玻璃熔炼工艺、高能脉冲氙气、高强度介质膜、大口径（1.2米）光学精密加工等。
6.培养和造就了一批技术骨干队伍
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