ICP刻蚀机的结构
想要了解更多ICP刻蚀机的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
ICP设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。
（1）预真空室预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。
（2）刻蚀腔体
等离子化学气相沉积设备价格
ICP刻蚀机的结构
想要了解更多ICP刻蚀机的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
ICP设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。
（1）预真空室预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。
（2）刻蚀腔体刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。
（3）供气系统供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，通过压力控制器（PC）和质量流量控制器（MFC）精准的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。
（4）真空系统真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空，只有在预真空室真空度达到设定值时，才能打开隔离门，进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供，刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。
ICP刻蚀机的测量与控制
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售ICP刻蚀机，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
由于等离子刻蚀工艺中的过程变量，如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗，等等，不易测量，因此业界常用的测量方法有：
虚拟测量（Virtual Metrology）
等离子刻蚀过程控制示意图
光谱测量
等离子阻抗监控
终端探测
远程耦合传感
控制方法
run-to-run 控制（R2R）
模型预测控制（MPC）
人工神经网络控制
（作者： 来源：）
