干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、曝光露光现象、残渣回沾、显影液老化、曝光时间过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。
经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题。
静电除尘、
铭牌曝光显影加工
干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、曝光露光现象、残渣回沾、显影液老化、曝光时间过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。
经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题。
静电除尘、喷感光油、检查当来料加工的工件经过IQC检验合格后，就交给下一道工序：喷感光油，但在喷感光油定要进行静电除尘，因为产品在生产过程和我们抹试的过程中，不同程度上会存在静电，而静电是可以吸付灰尘的，所以必须经过静电除尘，把静电去除后灰尘才不会吸付在产品上面，完成静电除后就进行下一步工作：喷感光油，喷感受光油的作用主要是为下一道工序感光(爆光)做好准备，将产品前后都喷上感光油，完成喷油工作后，必须对产品进行仔细检查，检查的目的是产品在喷油过程中有没有喷到油、有没有存留油渣等不良现象出现，当产品检查OK后就要流入下一个工序：感光(爆光)。
干膜显影性不良，超期使用。上述已讲过光致抗蚀干膜，其结构有三部分构成：聚酯薄膜、光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜。在紫外光照射下，干膜与铜箔板表面之间产生良好的粘结力，起到抗电镀和抗蚀刻的作用。若干膜超过有效期使用，这层粘结剂就会失效，在贴膜后的电镀过程中夹失保护作用，形成渗镀。解决的方法就是在使用前认真检查干膜的有效使用周期。
（作者： 来源：）
