DZS800型电子束镀膜设备
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa 恢复真空时间：从1×10 Pa抽至
高真空电子束镀膜机报价
DZS800型电子束镀膜设备
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa 恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统
e型电子枪：阳极电压：10kv(2套) 坩埚：水冷式坩埚，24穴设计，每个容量11ml
功率：0-10KW可调 电阻蒸发源(可选)
基片尺寸：可放置4″基片一次更换20个样品
样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°C±1°C
气路系统：质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显围：0-99μ9999
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——电子束产品供应商，我们为您带来以上信息。
电子束原理介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售电子束产品，我们为您分析该产品的以下信息。
电子在电场中会受力而得到加速、提高能量，产生电子束。产品配置：★样片数量及尺寸：1片Φ8英寸或5片Φ4英寸或伞形工件架（用户定制）★蒸发材料：金属。电子束焊原理一台电子增速器，注入的电子能量为20GeV（1GeV=109 eV，也就是10亿电子伏特），相应的电子速度为0.99999999979倍光速。电子经增速器加速后，能量可达到100GeV，电子速度达到0.999999999987倍的光速。这说明，电子在这台增速器里速度几乎没有增加，而能量增加了4倍。
电子束蒸发镀膜设备介绍哪些性能？
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真空测量：采用数显复合真空计（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空）, 测量范围为1×105Pa —1×10-5Pa。
断水报警、相序检测与保护、温度检测与保护、真空系统检测与保护。
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