电子束蒸发镀膜机的用途
电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。7×10Pa恢复真空时间：从1×10Pa抽至5×10Pa≤20min系统漏率：6。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.
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电子束蒸发镀膜设备厂家
电子束蒸发镀膜机的用途
电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。7×10Pa恢复真空时间：从1×10Pa抽至5×10Pa≤20min系统漏率：6。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.
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