后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。真空镀膜技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀
手机壳真空镀膜
后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。真空镀膜技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
镀膜制造需要部分耗材
1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用
2.TIO2颗粒
3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ
4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用
5.铜坩埚,需要根据机台配置选用
6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm
7.电子枪灯丝,需要根据机台配置选用
8.离子源,需要根据机台配置选用耗材
三,设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用
四,光学镀膜机台分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,
主要分为一下几类：
蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
为什么真空镀膜可以做成不同的颜色，还有七彩色？
因为在真空蒸镀完之后还要喷一层UV光油面漆，这层面漆上可以做不同的颜色。蒸镀通过镀一些硅化物可以做成七彩色，但比较薄，近看可以，远看不明显，；溅射通过CSi、CO、Si等物质进行反应镀可镀出七彩色，或者通过低温多层不同颜色的镀膜来呈现多彩。溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
而水电镀的一般为金属本色，要呈现其他颜色的需要涂UV面漆然后UV照射。
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