风速的控制洁净棚内的气流是左右洁净室性能的重要因素,一般洁净室的气流速度是选0.25~0.5m/s之间,此气流速度属微风区域,易受人、机器等的动作而干扰趋于混乱、虽提高风速可抑制此一扰乱之影响而保持洁净度、但因风速的提高,将影响运转成本的增加,所以应在满足要求的洁净度水准之时,能以适当的风速供应,以达到适当的风速供应以达到经济性效果。只需要您提供相关的参数,我们有的工程设计
洁净棚制作
风速的控制洁净棚内的气流是左右洁净室性能的重要因素,一般洁净室的气流速度是选0.25~0.5m/s之间,此气流速度属微风区域,易受人、机器等的动作而干扰趋于混乱、虽提高风速可抑制此一扰乱之影响而保持洁净度、但因风速的提高,将影响运转成本的增加,所以应在满足要求的洁净度水准之时,能以适当的风速供应,以达到适当的风速供应以达到经济性效果。只需要您提供相关的参数,我们有的工程设计人员为每一个客户做出的设计方案。
另一方面欲达到洁净室洁净度之稳定效果,均一气流之保持亦为一重要因素,均一气流若无法保持,表示风速有异,特别是在壁面,气流会延着壁面发生涡流作用,此时要实现高洁净度事实上很困难。垂直层流式方向要保持均一气流必须:(a)吹出面的风速不可有速度上的差异;(b)地板回风板吸入面之风速不可有速度上的差异。6、控制部分:根据使用要求,主要有启停开关控制、单组控制盒、触摸屏控制等。速度过低或过高(0.2m/s,0.7m/s)均有涡流之现象发生,而0.5m/s之速度,气流则较均一,一般洁净室,其风速均取在0.25~0.5m/s之间。
洁净棚制作的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势
具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。风机质量可靠,工作寿命长,加上的风道设计,大大提高了风机的效率、降低了噪声,内部净化级别可达100-100000级。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。
洁净棚净化级别的选择:
比较多的客户,会选用千级洁净棚,或万级洁净棚,少量客户会选用百级或万级。3、风机滤网机组FFU:,采用新加坡PCI直驱式离心风机,具有长寿命、低噪声、免维护、震动小、可三档调速等特性,风机质量可靠,工作寿命长达50000小时以上。总之,洁净棚级别的选择在于客户对洁净度的需要而定,但因洁净棚比较密闭,如选择洁净棚级别比较低时,往往会带来部分副1作用:冷量不足,员工在洁净棚内会感觉比较闷热,所以实际在和客户的沟通过程中,需要注意这点。
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