磁 控 靶
磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面
(1)对于表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；
(2)当膜层材料为贵重金属时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该贵重金属的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/
常规圆形平面靶规格:
1.靶材尺寸：Ф50m
加热样品台供应
磁 控 靶
磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面
(1)对于表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；
(2)当膜层材料为贵重金属时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该贵重金属的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/
常规圆形平面靶规格:
1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各类磁控靶
2.永磁靶（可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；
以上就是关于磁控靶产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司！
CF50高温束源炉
CF50高温束源炉是MBE的可加热至1600℃-1900℃。采用外水冷套结构,加热，温度测量控制重复性好，并且可以调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性，即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。用于低蒸汽压的元素和化合物材料薄膜沉积，例如Fe，Cr，Ni，Co，Au，Ge等材料，以及表面科学分析和磁性或氧化物薄膜沉积。(2)当膜层材料为贵重金属时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该贵重金属的利用率。
沈阳鹏程真空可提供定制各种尺寸高温束源炉。如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！
水冷铜电极介绍
水冷电缆电极是一种中空通水，用于大电流加热设备的特种电缆，通常由电极（电缆头）、导线、外护套管三部分组成。
普通水冷电缆电极使用铜管及铜排焊接而成，与设备连接不紧密；导线采用铜裸线绞制，弯曲半径大；外护套管使用普通橡胶软管，耐压低；套管与电极采用普通卡箍紧固，密封性不好，易漏水。水冷电缆电极采用整体铜棒车、铣加工而成，表面做钝化或镀锡处理；200mm2标称截面积的试验拉力为15KN，在此基础上，水冷电缆标称截面积每增加100mm2，试验拉力值相应增,加5KN。导线使用镀锡铜绞线或漆包线经数控绕线机编织而成，柔软度高，弯曲半径小；外护套管使用具有加强夹布层的合成橡胶管，耐压高。套管与电极使用紫铜卡箍在设备上冷挤压紧固，密封性好，不易漏水。
想要了解更多水冷铜电极的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
溅射靶材的作用是什么？
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子 ,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。想要了解更多水冷铜电极的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
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