Parylene裂解仪
Parylene用的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被称为当今
300D三源有机蒸发镀膜机供应
Parylene裂解仪
Parylene用的真空气相沉积工艺（CVD技术）制备，由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种形状的表面，包括尖锐的棱边，号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，甚至被称为当今世界的防潮、防霉（零级）、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。1、在光学薄膜领域中的应用:增透膜、反膜、截止滤光片、防伪膜等。Parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有良好的生物兼容性,生物稳定性，并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。
1.一腔体，采用SUS304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm，腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。
2. 旋转平台，可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。
3. 油式泵浦，抽气速度 ≧ 200L/min ; 压力 ≦ 5*10-3Torr。
4. 控制系统，采用具PID功能之温控模块及高的精度温度传感器，系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择Recipe 。
5. 附属冷凝机，温度 ≦ -90℃
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钙钛矿镀膜设备
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！
设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。
2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；
3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套
4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。
6、膜厚控制仪：测量范围0-999999
双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
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