化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：
(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能
真空五金镀膜
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：
(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。
(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。
(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。
真空镀膜真空五金镀膜
什么是真空镀膜技术？
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
、镀膜的方法及分类
在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物理气相沉积，简称为PVD。
pvd真空镀膜真空五金镀膜
pvd真空镀膜技术的应用领域
1.在装饰品方面
随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。
2.在刀具、模具等金属切削加工工具方面
在生活中，我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。
（1）金黄色的，是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层，TiN是代应用广泛的硬质层材料。
（2）黑色的，是在切削工具上涂了TiC、CrN涂层。
（3）钴铜色的，是在刀具上镀涂了TiALN涂层。
随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。
跟着真空镀膜加工等镀膜技术运用范畴的拓展，其面临的技术难点有以下一些方面，例如：
1、设备出资大，真空电镀加工槽的制备技术规范高，央求严，使一般出资者望而止步;
2、一般的真空镀膜加工出产中需要直流电，动力耗费大;
3、而一般的真空镀膜加工本钱高，因运用镀层金属阳极名贵，故而绑缚其运用方案;
4、但跟着市场经济的翻开，材料表面处理运用范畴逐渐拓展，市场需要日趋火燎。
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