加热样品台简介
本加热台涉及真空蒸镀设备技术领域，尤其是一种可旋转电子束加热样品台。现有用于电子束蒸发加热的样品台结构功能单一，样品在弧形加热台中不能旋转加热，受热不均匀，一定程度上影响加热效率。CF35高温束源炉为MBE蒸发或升华不同元素和化合物设计的，例如典型的III/V族Al，Ga或In等MBE材料，温度范围在700到1400℃。该可旋转电子束加热样品台包括加热台和
加热样品台销售
加热样品台简介
本加热台涉及真空蒸镀设备技术领域，尤其是一种可旋转电子束加热样品台。现有用于电子束蒸发加热的样品台结构功能单一，样品在弧形加热台中不能旋转加热，受热不均匀，一定程度上影响加热效率。CF35高温束源炉为MBE蒸发或升华不同元素和化合物设计的，例如典型的III/V族Al，Ga或In等MBE材料，温度范围在700到1400℃。该可旋转电子束加热样品台包括加热台和底座，加热台上设有半圆凹槽，半圆凹槽底部中心设有中心孔，半圆凹槽两侧通过转轴连接有V型弹簧夹片，半圆凹槽上方设有转动上盖，转动上盖由两个扇形盖板构成，扇形盖板拼接处设有转动销。改进后的可旋转电子束加热样品台结构简单，操作方便，工作稳定可靠，加热室密封性好，样品得到旋转加热，受热均匀，有效提高设备加热效率。
一种可旋转电子束加热样品台，包括加热台（1）和底座（2），其特征是，所述加热台（1）上设有半圆凹槽（3），半圆凹槽（3）底部中心设有中心孔（4），半圆凹槽（3）两侧通过转轴（5）连接有V型弹簧夹片（6），半圆凹槽（3）上方设有转动上盖（7）。干燥已经清洁的玻璃表面沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年真空配件与零件行业经验，专注真空配件与零件研发定制与生产，的真空配件与零件生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话。
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靶材的类别有哪些？
溅射靶材的种类较多,即使相同材质的溅射靶材也有不同的规格。按照不同的分类方法,能够将溅射靶材分为不同的类别,主要分类情况如下:
按形状分类:长靶、方靶、圆靶按化学成份分类:金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等)、合金靶材(镍铬合金、镍钴合金等)、陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)
按应用领域分类:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、I具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材。
以上内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！
靶材的应用领域
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产磁控靶产品，欢迎新老客户莅临。
1 :微电子领域
2 :平面显示器用靶材
3 :存储技术用靶材
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域还可以应用于材料、高温耐蚀等行业。
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