刻蚀机
以下是创世威纳为您一起分享的内容，创世威纳生产离子束刻蚀机，欢迎新老客户莅临。
刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。同时为了保证氟离子的浓度和刻蚀速度必须加入一定比例的氧气生成二氧化碳。
刻蚀机主要对太阳能电池片周边的P—N结进行刻蚀，
离子束刻蚀机工作原理
刻蚀机
以下是创世威纳为您一起分享的内容，创世威纳生产离子束刻蚀机，欢迎新老客户莅临。
刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。同时为了保证氟离子的浓度和刻蚀速度必须加入一定比例的氧气生成二氧化碳。
刻蚀机主要对太阳能电池片周边的P—N结进行刻蚀，使太阳能电池片周边呈开路状态。也可用于半导体工艺中多晶硅，氮化硅的刻蚀和去胶。
刻蚀精度主要是用保真度、选择比、均匀性等参数来衡量。所谓保真度度，就是要求把光刻胶的图形转移到其下的薄膜上，即希望只刻蚀所要刻蚀的薄膜，而对其上的掩膜和其下的衬底没有刻蚀。事实上，以上三个部分都会被刻蚀，只是刻蚀速率不同。选择比就是用来衡量这一指标的参数。S=V/U（V为对薄膜的刻蚀速率，U为对掩膜或衬底的刻蚀速率），S越大则选择比越好。由于跨越整个硅片的薄膜厚度和刻蚀速率不尽相同，从而也导致图形转移的不均匀，等离子刻蚀机尤其是中心和边缘相差较大。因而均匀性成为衡量这一指标的重要参数。除以上参数外，刻蚀速率也是一个重要指标，它用来衡量硅片的产出速度，刻蚀速率越快，则产出率越高。
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离子束刻蚀机的应用
创世威纳——离子束刻蚀机产品供应商，我们为您带来以下信息。
应用的离子束溅射和离子束刻蚀工艺,将应变电桥直接制作在金属测压膜片上。由于不用传统的胶粘工艺，显著改善了应变式传感器的长期稳定性及抗蠕变特性,使产品使用的温度范围大为扩展。由于没有活动部件，抗振动和抗冲的能力很强，可用于恶劣的环境。
离子束刻蚀机
离子束技术的应用涉及物理、化学、生物、材料和信息等许多学科的交叉领域。离子束加工在许多精密、关键、高附加值的加工模具
等机械零件的生产中得到了广泛应用。一些用于军事装备的建设上，如改善蜗轮机主轴承、精密轴承、齿轮、冷冻机阀门和活塞的性能。离子注入半导体掺杂已成为超大规模集成电路微细加工的关键工艺，导致出现了80年代集成电路产业的腾飞。
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