电子束结构介绍
粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体
电子束镀膜机价格
电子束结构介绍
粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。随着科学技术的不断发展，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子枪一样节约资源。
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电子束原理介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售电子束产品，我们为您分析该产品的以下信息。
电子在电场中会受力而得到加速、提高能量，产生电子束。电子束焊原理一台电子增速器，注入的电子能量为20GeV（1GeV=109 eV，也就是10亿电子伏特），相应的电子速度为0.99999999979倍光速。电子经增速器加速后，能量可达到100GeV，电子速度达到0.999999999987倍的光速。这说明，电子在这台增速器里速度几乎没有增加，而能量增加了4倍。期望大家在选购电子束产品时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。
电子束蒸发镀膜机的用途
电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.
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电子束蒸镀系统的特点
* 涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
* pocket电子枪
* 电子束源和基片遮板
* 性能好的开关电源，杰出的消弧性能
* 自动Pocket索引以及可编程的扫描控制器
* 膜厚监测，可设置目标膜厚作为工艺终点条件
* 旋转样品台，提供高均匀性
* 带观察视窗的腔门，便于放片/取片
* PC全自动控制，具有高度的可重复性
* Labview软件的计算机全自动工艺控制控
* 多级密码保护的授权访问设计
* EMO保护以及完全的安全联锁
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