真空镀膜机溅射工艺
真空镀膜机溅射工艺主要用于真空镀膜机溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受Ar离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。真空镀膜机溅射刻蚀时，应尽可能从真空镀膜机溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通
AR镀膜机
真空镀膜机溅射工艺
真空镀膜机溅射工艺主要用于真空镀膜机溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受Ar离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。真空镀膜机溅射刻蚀时，应尽可能从真空镀膜机溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时，溅射源置于靶极，受Ar离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜；若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。在溅射中，溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的，其能量较高，往往比蒸发原子高出1～2个数量级，因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。
若在溅射时衬底加适当的偏压，可以兼顾衬底的清洁处理，这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。另外，用真空镀膜机溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜，便于制备化合物或合金的薄膜。溅射主要有离子束溅射和等离子体溅射两种方法。离子束溅射装置中，由离子枪提供一定能量的定向离子束轰击靶极产生溅射。离子枪可以兼作衬底的清洁处理和对靶极的溅射。为避免在绝缘的固体表面产生电荷堆积，可采用荷能中性束的溅射。中性束是荷能正离子在脱离离子枪之前由电子中和所致。离子束溅射广泛应用于表面分析仪器中，对样品进行清洁处理或剥层处理。由于束斑大小有限，用于衬底的薄膜淀积尚有困难。等离子体真空镀膜机溅射也称辉光放电溅射。产生溅射所需的正离子来源于辉光放电中的等离子区。靶极表面必须是一个高的负电位，正离子被此电场加速后获得动能轰击靶极产生溅射，同时不可避免地发生电子对衬底的轰击。
镀膜机能镀出不同颜色的不锈钢产品吗
不同的颜色，用不同的工艺和不同的耙材，比如常见的枪色，我们一般选择用钛耙或者铬耙，钛耙做出来的颜色老，铬耙做出来的颜色嫩，黑色的我们一般用钛柱耙或者铬柱耙。
如果膜层出来掉色的现象，个分析工艺是否正确，第二个分析前处理清洗是否，纯水值是否达到标准要求，第三个分析真空炉是否有泄漏。原因大概就这三个。如果颜色出现变色，分析挂具的产品是否在有效的溅射范围内，第二分析工艺是否应该调整。
退镀这一块也是根据不同的工艺，偏压的大小，不同的耙材所镀的颜色来分析应该如何来正确的退镀，用钛耙镀出来的颜色。
真空镀膜机镀膜原理：
高电压电子枪将以上几种药品汽化，均匀分布在镜片表面。
1.全表面单层镀膜（FC）:所有接触空气的玻璃表面都镀了单层减反增透膜。如果在所有的空气介面上都镀上单层减反增透膜，会在一个波段上取得更高的透光率。为方便工艺，在全表面单层减反膜的设计中，某一片的二个面中心波长通常一致。
2.多层减反增透膜和宽带膜（MC）:单层膜的剩余反射率仍显高，偏色现象比较严重。要进一步提高透光率，可用双层Ｖ形增透膜，用层镀膜控制镜片的反射率，第二层镀膜改善光透射率。对于单层氟化镁膜，光学玻璃的折射率ng是太低，可先镀一层厚度为λc2/4（λc2为光在镀膜中的波长）的折射率大于镜片折射率的一氧化硅膜（折射率为nc2），这时薄膜和基片的组合系统可以用一折射率为v=nc2^2/ng的假想基片来提高镜片的折射率，然后镀上一层λc1/4氟化镁膜层来减少反射率。但对于偏离λ的波长，不能等价也不能满足干涉相消的条件，故分光曲线呈Ｖ形，色彩仍不平衡。
要进一步消除彩斑幻象，平衡色彩可用双层或多层Ｗ形宽带减反增透膜，多层减反增透膜系还原真实色彩，并不是要求镜片在可见光(370nm―680nm)光谱范围内透过率一致。而是要求在蓝、绿、红光（370nm―480nm、500-550nm、580nm―680nm）三个通道通过的光线恰好可以合成标准的白光。这种膜系的反射率曲线在520nm-540nm区间形成一个0.8%左右的反射峰，在440nm和640nm处有二个反射谷，形状像W曲线，所以叫W形减反增透膜。这种膜系的反光为翠绿色所以也称减反绿膜。
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