佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：
从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合
LED反光杯注塑生产厂家
佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.
物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：
从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；离子镀密度大 ，无气孔但膜层缺陷较多，附着性很好，内应力视工艺 条件而定，绕射性较好。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：
靶功率；减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。磁控溅射本身粒子初始动能比较小，离化率低，电源功率越大，溅射出的粒子的初始能量越大，靶材溅射量也越大，沉积速率越快，膜层容易上厚度和硬度，同时工件温升也大，过高的功率会使沉积速率太快，粒子来不及表面迁移和扩散，易形成阴影效应，膜层会比较疏松，应力较大。
靶基距：靶基距是影响成膜速率的重要因素之一，随着靶基距增加，被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多，同时等离子体密度也减弱，动能减少，沉积速率降低，但膜层外观较好。靶基距太小，沉积太快，工件温升大，膜层外观差
辉光清洗：对工件施加负偏压，产生辉光放电，利用ya离子轰击工件表面，这种辉光放电清洗作用比较柔和，一般采取由弱到强的轰击清洗顺序，是怕工件太脏时一开始就强轰击，可能产生强烈的打火而损伤工件。
真空镀膜的形式：蒸发镀膜
工艺原理：
1）在真空室中，膜料被加热变成蒸发原子，蒸发原子在真空条件下不与残余气
体分子碰撞而到达工件表面；
2）蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；
3）吸附原子在基材表面发生表面扩散。
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