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南通光罩给您好的建议

公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务! 尺寸涨缩原因分析 胶片在光绘前没有经过预置 由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致,因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时,预置时必须打开胶片的内包装,使其与外界的
光罩







公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!

尺寸涨缩原因分析




胶片在光绘前没有经过预置

由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致,因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时,预置时必须打开胶片的内包装,使其与外界的空气充分接触。
















掩膜版:通俗点理解,相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够,是洗不出来照片的。光刻机施工前,要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃,玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。精度要求非常高。

  透镜:用透镜的光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。要控制这个误差。精度要求很高。

  就是测量台移动的控制器,也是纳米级精度,要求超高。








掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。PS版的显影时间主要由PS版的种类、曝光时间及显影液的浓度、显影温度等条件来确定。






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