PVD真空镀膜真空镀膜加工
PVD真空镀膜过程的均匀性
PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光
真空镀膜加工
PVD真空镀膜真空镀膜加工
PVD真空镀膜过程的均匀性
PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
真空镀膜产品其膜面不仅亮度高，质感细腻逼真，同时制作成本较低，有利于环境保护，较少受到基材材质限制的优点，被越来越多的应用在化妆品外壳的表面处理。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。基体外表状况对镀层布局的影响真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
我们采用的是纯度在99.99%以上左右的锡或铟及铟锡合金。厚度在30纳米以下的锡，连续性相当的差，但能取得银白色金属光泽并具有较大的电阻。铟也是一样，但铟的银白色反光率更胜于锡的外观，因为价格较高，我们采用铟锡合金，这样既能得到不导电膜又能得到更白更亮的反光金属效果！镀铟锡不导电膜都是半透明的，所以我们要求被镀基材为透明或黑色为佳。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。因为镀铟锡都是在250度就开始溶化，所以蒸发的温度也相对较低，这样加热熔化及蒸发的电流和时间相对也较低。
真空镀膜在饰品中的重要性
在如今真空镀膜处理技术伴随着时代的发展和改进，人们对饰品需求也多元化、个性化，在商场中从饰品外表颜色多样，形状多样，个人需求个性化。真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。首饰真空电镀外表处理中，真空电镀一直是首饰电镀的主要加工方法，电镀并不是简略的在饰品外表一层镀层，而是经过杂乱的工艺使产品外表取得一层镀层。
首饰正空电镀中仿古色电镀加工在饰品电镀中占有重要的地位，电镀古色品种多样，作为真空电镀服务商我们能够为客户依据自己的产品要求合理的匹配电镀工艺。真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13。真空电镀古色能够进行加工的基体材料广泛，运用了这一技术古代前史文化和现代科学电镀结合在一起，带给人一种陈旧，具有古朴的感觉，进一步提升饰品的档次和观赏性。
（作者： 来源：）
