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主营产品:电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束
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oled多源蒸发镀膜机厂来电咨询,沈阳鹏程

多源有机无机蒸发系统oled多源蒸发镀膜机厂 多源有机无机蒸发系统 想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯,请持续关注本公司。 主要用途: 用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。 系统组成: 由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。 技术指标: 极限真空度5.
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多源有机无机蒸发系统oled多源蒸发镀膜机厂

多源有机无机蒸发系统

想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯,请持续关注本公司。

主要用途:

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标:

极限真空度5.0×10-5Pa,系统漏率:1×10-7PaL/S; 恢复真空时间:40分钟可达6.6×10 Pa

真空室:D形真空室,尺寸350× 380mm

样品台:尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品;

电极:数量:4支水冷结构;直径Φ20㎜

样品基片:,基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统:基片挡板与源挡板;靶挡板共有3套, 样品挡板(1套)

石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

欢迎拨打图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司!




Parylene裂解仪

Parylene用的真空气相沉积工艺(CVD技术)制备,由活性小分子在基材表面'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层,它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐的棱边,号称'无孔不入'可深入裂缝里和内表面。这种真空状态下室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层,厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性,甚至被称为当今世界的防潮、防霉(零级)、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。如果您想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的知识,欢迎拨打图片上的热线联系我们。Parylene涂层在具备以上优异防护性能基础上,尤其还具有良好的生物兼容性,生物稳定性,并有优异的自润滑性,涂层均匀可控性,以及好的物理机械性能。

1.一腔体,采用SUS304不锈钢舱体有效镀膜空间 ≧ 直径300mm x 高度350mm,腔体设有观景窗, 采用掀盖式腔盖并设有把手以便腔盖开闭。

2. 旋转平台,可承载重量: 20公斤,旋转速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦,抽气速度 ≧ 200L/min ; 压力 ≦ 5*10-3Torr。

4. 控制系统,采用具PID功能之温控模块及高的精度温度传感器,系统可进行自动或半自动(温控/真空)操作,并可储存与选择Recipe 。

5. 附属冷凝机,温度 ≦ -90℃

期望大家在选购电阻热蒸发镀膜产品时多一份细心,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯,欢迎拨打图片上的热线电话!!!




多源蒸发系统介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司供应电阻热蒸发镀膜产品,以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作  

该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备,采用直线式结构,由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成,金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接,样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。在高真空下,采用电阻式蒸发原理,利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料,使其在高温下熔化蒸发,从而在样品上沉积所需要的薄膜。  




电阻蒸发镀膜设备介绍

工作原理:真空电阻蒸发镀膜设备是在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装



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